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Siliciumdioxid, 5 g

ROTI®METIC 99,998 % (4N8)
VE
Verp.
Summenformel SiO2
Molare Masse (M) 60,09 g/mol
Dichte (D) 2,2 g/cm³
Schmelzpunkt (F) 1610 °C
CAS Nr. 60676-86-0
EG-Nr. 262-373-8


50,50 €/VE 

zzgl. MwSt. | 5 g pro VE

Best.-Nr. 5738.1

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Produktdetails



Siliciumdioxid ROTI®METIC 99,998 % (4N8)

Technische Informationen
Partikelgröße ~60 mesh
Siliciumdioxid
Ausgewählte Menge:   0
  1. Zwischensumme:  0.00
Bestell Nr. VE Verp. Preis Menge
5738.1 5 g Kunst.

50,50 €

5738.2 25 g Kunst.

139,00 €

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Allgemeine Informationen

ROTI®METIC (Metal Inorganic Compounds)

Ultrareine Metalle und Metallverbindungen

Das ROTI®METIC-Sortiment umfasst mehr als 180 hochreine Metalle und anorganische Metallverbindungen mit einer Reinheit von 99,9 % (3N) bis 99,9999 % (6N). Moderne Fertigungstechnologien und die hohen Qualitäts- und Sicherheitsstandards ermöglichen diese hohen Reinheitsgrade. Mittels HR-ICP, ICP-OES, AAS, GD-MS werden bis zu 60 Spurenmetallverbindungen erfasst und auf dem chargenspezifischen Analysenzertifikat dokumentiert, welches mit dem Produkt ausgeliefert wird. Unsere ultrahochreinen Metalle und Metallverbindungen sind ausgezeichnet geeignet für folgende Anwendungsbereiche:

  • Instrumentelle Analytik
  • Chemische Analysen & Synthese
  • Kristallzüchtung
  • Nanotechnologie
  • Laser- und Photovoltaiktechnologie
  • Glasfasertechnik
  • Photonik-Forschung
  • Brennstoffzellen
  • Katalyse
Unser Anspruch ist, die Qualität und den Service zu bieten, welche Sie innerhalb der Forschung & Entwicklung oder in der Produktion benötigen. Das sehr gute Preis-Leistungs-Verhältnis, sowie die Möglichkeit, auf Anfrage auch Semi-Bulk Mengen zu bekommen, sprechen für unser ROTI®METIC Sortiment.


Analysenzertifikate

Hier können Sie Ihr Analysezertifikat zum ausgewählten Produkt suchen und downloaden. Bitte geben Sie Ihre Chargennummer an.
Es wurden die folgenden Analysezertifikate gefunden:

Typanalyse

Gehalt (metallbezogen)99,998 %
Analytik (ICP, AAS): bis zu 60 spezifizierte Spurenmetallverunreinigungen im ppm-Bereich.