Technisches Datenblatt
2-Butanon
Molare Masse (M) 72,11 g/mol
Dichte (D) 0,81 g/cm³
Siedepunkt (Sdp) 80 °C
Flammpunkt (Flp) -8 °C
Schmelzpunkt (F) -86 °C
ADR 3 II
WGK 1
CAS Nr. 78-93-3
EG-Nr. 201-159-0
UN-Nr. 1193
114,50 €/VE
zzgl. MwSt. | 2,5 l pro VE
Best.-Nr. 0051.1
- Zwischensumme: 0.00
| Bestell Nr. | VE | Verp. | Preis | Menge | |
|---|---|---|---|---|---|
| 0051.1 | 2,5 l | Kunst. |
114,50 € |
|
|
|
Auf Lager
in Beschaffung
Nicht mehr lieferbar
Aktuell kein Liefertermin verfügbar
|
|||||
- Zwischensumme: 0.00
Downloads / SDB
Allgemeine Informationen
Mit der VLSI (Very Large Scale Integration) Produktlinie bietet Carl ROTH Lösungsmittel und Säuren zur Reinigung und zum Ätzen von Wafern für die Halbleiter-Industrie. Beide Vorgänge sind essentiell bei der Chipherstellung. Bei Carl ROTH finden Sie dazu ausgewählte Produkte.
Eigenschaften:
- Hohe Reinheit
- Spurenmetallgehalt meist unter 100 ppb
- Partikelfiltriert, maximal 250 Partikel/ml
VLSI oder Very Large Scale Integration bedeutet, dass eine große Anzahl Transistoren (inzwischen mehrere 100 Mio.) auf einem Chip Platz finden. Da die Zwischenräume sehr klein sind, etwa 3 μm, müssen auch die Lösungsmittel und Säuren eine entsprechend hohe Reinheit haben und partikelfiltriert sein. Für VLSI ist die Anzahl der Partikel auf 250 p/ml begrenzt.
Für die Halbleiterindustrie bzw. Forschung und Entwicklung auf diesem Gebiet, gibt es unterschiedliche Reinheitsgrade:
VLSI
very large scale integration
Metallionenkonzentration je Fremdelement ca. 50-100 ppb, Partikelkonzentration <250/ml
ULSI
ultra large scale integration
Metallionenkonzentration je Fremdelement ca. 10-50 ppb, Partikelkonzentration <100/ml
SLSI
super large scale integration
Metallionenkonzentration je Fremdelement ca. 1-10 ppb, Partikelkonzentration <30-100/ml
Analysenzertifikate
Garantieanalyse
| Gehalt | ≥99,5 % |
| Partikelmenge (≥0,5 µm) | ≤250 p/ml |
| Wasser | ≤0,1 % |
| Alkohol (als 2-Butanol) | ≤0,1 % |
| Acidität (als CH3COOH) | ≤0,005 % |
| Farbe (APHA) | ≤10 |
| Abdampfrückstand | ≤0,0005 % |
| Chlorid (Cl) | ≤0,0001 % |
| Sulfat (SO4) | ≤0,00005 % |
| Aluminium (Al) | ≤50 ppb |
| Antimon (Sb) | ≤10 ppb |
| Arsen (As) | ≤10 ppb |
| Barium (Ba) | ≤20 ppb |
| Bismut (Bi) | ≤10 ppb |
| Blei (Pb) | ≤10 ppb |
| Bor (B) | ≤20 ppb |
| Cadmium (Cd) | ≤10 ppb |
| Calcium (Ca) | ≤50 ppb |
| Chrom (Cr) | ≤10 ppb |
| Eisen (Fe) | ≤50 ppb |
| Gallium (Ga) | ≤10 ppb |
| Kalium (K) | ≤20 ppb |
| Cobalt (Co) | ≤10 ppb |
| Kupfer (Cu) | ≤10 ppb |
| Lithium (Li) | ≤10 ppb |
| Magnesium (Mg) | ≤20 ppb |
| Mangan (Mn) | ≤10 ppb |
| Molybdän (Mo) | ≤10 ppb |
| Natrium (Na) | ≤50 ppb |
| Nickel (Ni) | ≤10 ppb |
| Silber (Ag) | ≤10 ppb |
| Strontium (Sr) | ≤10 ppb |
| Titan (Ti) | ≤10 ppb |
| Vanadium (V) | ≤10 ppb |
| Zink (Zn) | ≤20 ppb |
| Zinn (Sn) | ≤10 ppb |
| Zirkonium (Zr) | ≤10 ppb |